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拓荆科技推动薄膜沉积设备领域 在今年的销售量有希望再创新高
报志愿编写王志
“企业反应腔商品，2024年上半年度销售量超出430个，截止到2024年6月底，销售量已已超1940个，预计明年全年度销售量将超1000个，有希望创历史新高。”拓荆科技有关负责人接受《证券日报》编写采访时说。
创立于2010年的拓荆科技是一家专注于半导体材料专业设备行业高新技术企业。2011年，企业的第一台12英尺PECVD（等离子提高干法刻蚀）宣布在出厂，到现在的，企业已成长为薄膜沉积设备领域的领军企业。
打破垄断
据了解，做为芯片生产的核心设备之一，薄膜沉积设备一般由平台及好几个反映腔构成。在其中，反映腔是做好原材料堆积、蚀刻加工等反应的主要设备。以往很长一段时间，我们国家的薄膜沉积设备完全依赖于国际性生产商。
在第一台12英尺PECVD机器设备经手机客户端验证后，拓荆科技后面就推出了ALD（原子层沉积）、SACVD（次自然压干法刻蚀）、HDPCVD（密度高的等离子干法刻蚀）、高深宽比管沟添充CVD（干法刻蚀）系列产品，打破了国外厂家的长期性垄断性，为国内集成电路制造全产业链补齐了关键一环。
新趋势财运创办人赵少华岩接受《证券日报》编写采访时说，在推动半导体业完成安全自主可控发展过程中，领域专业设备供不应求，尤其是做为芯片生产“三大件”之一的薄膜沉积设备，发展空间巨大。
财报显示，2018年至2023年，拓荆科技的年营业收入由7064.4万余元提高到了27.05亿人民币，五年时间提高超38倍，复合增长率为107%。在其中，2021年，企业初次实现提高效益。2021年至2023年，公司年度纯利润由6848.65万余元增长至6.63亿人民币，复合增长率达到114%。2024年前6月，企业实现营收12.67亿人民币，同比增加26.22%。
“截止到2024年第二季末，企业在途物资余额为31.62亿人民币，较2023年末19.34亿人民币提高63.5%，为后续的收入增加奠定了良好基础。现阶段，企业在手订单充裕，未来业绩提高具有夯实基础。”拓荆科技上述情况负责人表示。
增加研发力度
据统计，半导体材料专用设备制造就是典型的技术性密集型行业。资料显示，截至今年6月底，拓荆科技累计担负9项国家重大专项/课题研究，总计进行专利申请1279项（含PCT），专利授权402项。上半年，企业科研投入3.14亿人民币，同比增加50%。科研投入在主营业务收入中的比例为24.81%，持续保持在领先水平。企业研发团队在员工数量中的比例超四成。
拓荆科技上述情况相关负责人表示，上半年，企业新增加进行专利申请74项（含PCT），新增加专利授权45项。商品及工艺涉及面不断发展，商品竞争优势不断提升。几台套新工艺技术通过客户认证，并实现了产业化应用，得到销售订单或回购。
另据了解，在进一步巩固薄膜沉积设备领跑优势的同时，拓荆科技还面对新技术发展趋势和市场需求，涉足混和引线键合设备领域，对单晶硅片混和引线键合机器设备、处理芯片对单晶硅片引线键合表面清理机器设备进行拓展。现阶段，公司自主研发的引线键合套准精密度隧道检测商品Crux300已经获得销售订单，并且在积极推动处理芯片对单晶硅片混和引线键合设备的研发。企业最新推出的单晶硅片对晶圆混和引线键合机器设备作为国产第一台用于量产的混和引线键合机器设备，性能产能指标已达到国际领先水平。
赵少华岩表明，混和引线键合机器设备做为晶圆级三维创新应用中最前沿核心设备，预估该细分行业将会得到飞速发展。拓荆科技在该领域的前瞻布局，跻身企业一个新的业绩增长点，向其开启第二成长曲线。
拓荆科技上述情况相关负责人表示，将来，公司还将持续加大研发力度，扩展新品、新技术，健全产业发展规划，推进高质量发展，为股东造就长期性可持续发展的使用价值。
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